K&F 40.5MM Nano-X Multifunctional CPL+Variable/Fader ND 2~32 filter

Multifunkčný filter K&F 40,5 mm Nano-X CPL + Variable ND 2~32 kombinuje kruhový polarizačný filter a variabilný neutrálny filter v jednom príslušenstve k objektívu. Znižuje množstvo prijatého svetla, kontroluje odrazy a stmavuje oblohu, pričom eliminuje problém „X“ kríža, ktorý sa často vyskytuje pri širokouhlých záberoch. Tento filter je vyrobený z profesionálneho optického skla s viacvrstvovými povlakmi a zaisťuje jasné, vysoko kvalitné snímky a trvalú ochranu objektívu.

Multifunkčný filter K&F 40,5 mm Nano-X CPL + Variable/Fader ND 2~32 ponúka fotografom a kameramanom univerzálne riešenie 2 v 1. Funguje ako polarizačný filter CPL, ktorý redukuje odlesky a zvyšuje sýtosť farieb, aj ako variabilný filter ND s redukciou svetla v rozsahu 2 až 32 stupňov, čím umožňuje presné ovládanie expozície a kreatívnu flexibilitu.

Tento filter je vyrobený z vysoko kvalitného profesionálneho optického skla s viacvrstvovými povlakmi a poskytuje ostré obrazy s minimálnym odrazom, pričom je vodotesný a odolný proti poškriabaniu. Rám z hliníkovej zliatiny má zubatý okraj pre bezpečný úchop a jednoduchú inštaláciu a nastavenie ND je jasne označené od Min po ND32 pre presné ovládanie svetla. Pokročilý dizajn zabraňuje vzniku artefaktu „X“, ktorý sa bežne vyskytuje u širokouhlých variabilných ND filtrov, a zaisťuje rovnomernú kvalitu obrazu v celom ráme.

Tento kompaktný filter je ideálny pre fotografovanie krajiny, dlhé expozície a produkciu videa a ponúka ochranu objektívu aj kreatívnu kontrolu v jednom praktickom príslušenstve.

Kľúčové vlastnosti:

• Filter 2 v 1: CPL + variabilný ND 2~32 stupňov
• Eliminuje krížové artefakty „X“ pri širokouhlých záberoch
• Prémiové profesionálne optické sklo s viacvrstvovými povlakmi
• Priepustnosť svetla až 0,7 %, vodotesný a odolný proti poškriabaniu
• Rám z hliníkovej zliatiny so zubatým okrajom pre ľahkú manipuláciu
• Nastavenie ND označené od Min po ND32 pre presné ovládanie expozície
• Znižuje odrazy, stmavuje oblohu a kontroluje expozíciu v jednom kroku