K&F Concept 82 mm UV filter 0,1 % ultranízky odraz (titánový povlak), séria Nano-X

UV filter s veľmi nízkym odrazom. Spoločnosť K&F Concept používa na UV filtri s ultra nízkou reflexiou titánovú povrchovú úpravu, ktorá znižuje povrchovú reflexiu filtra na 0,1 %, čo zlepšuje prenos svetla, účinne zabraňuje odleskom a duchom v protisvetle a zabezpečuje bezchybnú ostrosť.

• UV filter s veľmi nízkou reflexiou — K&F Concept používa na UV filtri s veľmi nízkou reflexiou titánovú povrchovú úpravu, ktorá znižuje povrchovú reflexiu filtra na 0,1 %, čo zlepšuje prenos svetla, účinne zabraňuje odleskom a duchom v protisvetle a zabezpečuje bezchybnú ostrosť.
• Premiové optické sklo — Tento ultra nízkoreflexný UV filter série K&F Concept Nano-X je vyrobený z optického skla HD, ktoré zabezpečuje ostrý obraz a zachováva verné farby fotografií.
• Optimálna kvalita obrazu — Ultranízkoreflexný UV filter má priepustnosť svetla ≥ 99,8 % a odrazivosť ≤ 0,1 %, aby zvládol natáčanie videí v rozlíšení 4K/8K HD a fotografovanie.
• MRC Featured — V sérii K&F Concept Nano-X sa používa 28-vrstvová technológia viacvrstvovej odolnej povrchovej úpravy, vďaka ktorej má filter zelenú nanopovrchovú úpravu a je odolný proti poškriabaniu, vode, oleju a prachu.
• Tenký rám bez vinetácie — Tenký a ľahký hliníkový rám uv filtra s hrúbkou 3,3 mm dokáže maximálne znížiť vplyv na svetlo a účinne zabrániť tmavému rohu pri širokouhlom snímaní.

 
1. Nízka odrazivosť MCUV
2. Ultra nízka odrazivosť
3. Spektrum odrazivosti
4. Ochrana objektívu fotoaparátu

PredchádzajúciNasledujúci
 
1. 99.8% priepustnosť
2. 28 vrstiev nanometrových povlakov
3. Vodotesnosť
4. Odolný voči poškriabaniu
5. Vysoké rozlíšenie obrazu

PredchádzajúciNasledujúci
 
1. CNC-hliníkový rám
2. Mimoriadne tenký rám
3. Vysoká kompatibilita

PredchádzajúciNasledujúci

PredchádzajúciNasledujúci