K&F 55MM,NANO-X series ultra-low reflection UV filter,Ultra clear lenses, waterproof, anti-scratch

Špičkový UV filter určený pre fotografov, ktorí hľadajú výnimočnú čistotu obrazu a ochranu svojich objektívov.

Funkcie

• UV filter s veľmi nízkym odrazom: K&F Concept používa na UV filtri s veľmi nízkou reflexiou technológiu titánového povlaku, ktorá znižuje povrchovú reflexiu filtra na 0,1 %. Tým sa zvyšuje priepustnosť svetla, účinne sa zabraňuje odleskom a duchom v protisvetle a zabezpečuje sa bezchybná ostrosť.
• Prémiové optické sklo: Ultra-Low Reflection UV Filter série K&F Concept Nano-X je vyrobený z optického skla HD, ktoré zabezpečuje ostrý obraz a zachováva verné farby fotografií.
• Optimálna kvalita obrazu: Ultra-Low Reflection UV Filter má priepustnosť svetla ≥ 99,8 % a odraz svetla ≤ 0,1 %, takže je vhodný na natáčanie videí v rozlíšení 4K/8K HD a fotografovanie.
• Odporúčané MRC: K&F Concept Nano-X Series využíva 28-vrstvovú technológiu viacvrstvovej povrchovej úpravy. Vďaka tomuto zelenému nano povlaku je filter odolný proti poškriabaniu, odpudzuje vodu, olej a prach.
• Tenký rámik bez vinetácie: Tenký a ľahký hliníkový rám UV filtra s hrúbkou 3,3 mm znižuje vplyv svetla a účinne zabraňuje tmavým rohom pri širokouhlom snímaní.