K&F Concept Nano-X polarizačný filter CPL 55 mm, ultra nízka odrazivosť

Nano-X polarizačný filter CPL 55 mm, ultra nízka odrazivosť, potlačí odlesky a prehĺbi farby. Využije sa hlavne v krajine, pri vode a pri fotení cez sklo výkladov alebo áut, kde bez neho odlesky prebijú farby aj kresbu a obloha zostane bledá.

• 28 vrstiev antireflexnej úpravy, odrazivosť 0,1 %
• Skrutkuje sa na objektív so závitom 55 mm.
• Povrch odpudzuje vodu, mastnotu a odoláva poškriabaniu

Bez odleskov, s hlbšími farbami

Polarizačný filter odstráni odlesky z vody, skla a lístia a tým vytiahne farby, ktoré sa pod nimi strácajú. Obloha stmavne, mraky vystúpia, lístie prestane svietiť bielo a cez hladinu vidno pod vodu. Účinok sa riadi otáčaním filtra a je najsilnejší kolmo na slnko; nedá sa dorobiť v postprodukcii, pretože ide o vlastnosť svetla, nie o farbu v súbore.

Antireflexné vrstvy

Sklo má 28 vrstiev antireflexnej úpravy a odráža len 0,1 % svetla, takže sa v protisvetle neobjavia duchovia ani závoj.

Povrch odpudzuje vodu a mastnotu, takže kvapky stečú a odtlačky prstov možno zotrieť bez šmúh; úprava zároveň znáša utieranie v teréne. Tenký rám 5,3 mm nechá aj širokouhlý objektív bez tmavých rohov a ryhovaný okraj sa dá otáčať aj s nasadenou slnečnou clonou. Účinok sa pritom ladí plynule, takže odlesk z výkladu alebo z hladiny sa dá zložiť len sčasti a časť lesku v snímke nechať.