K&F 55MM, NANO-X-CPL Magnetic filter,HD, Waterproof, Anti Scratch, Green Coated,with magnetic attachment

Magnetický filter K&F 55MM NANO-X CPL zvyšuje čistotu a sýtosť farieb a zároveň redukuje odlesky. Vyznačuje sa rýchlou magnetickou inštaláciou, ultratenkým CNC hliníkovým rámom a odolným vodotesným optickým sklom s antireflexnou úpravou a zeleným povlakom.

Magnetický filter K&F 55MM NANO-X CPL je určený pre fotografov, ktorí hľadajú vynikajúcu kvalitu obrazu s rýchlou a jednoduchou obsluhou. Tento kruhový polarizačný filter (CPL) odstraňuje odrazy z nekovových povrchov, ako je voda, sklo a lístie, a poskytuje ostrejšie obrazy s vylepšenou sýtosťou farieb a kontrastom. Jeho obojstranne leštené optické sklo HD zaisťuje vysokú vernosť a presnosť farieb, aj pri použití s teleobjektívmi. Pokročilá nano-vrstva poskytuje výnimočnú odolnosť a ochranu – je vodovzdorná, odolná proti plesniam, poškriabaniu a mastnote – vďaka čomu je možné zotrieť kvapky vody, odtlačky prstov a mastnotu bez toho, aby bola ohrozená čistota obrazu. Vďaka magnetickému upevňovaciemu systému sa filter inštaluje alebo odstraňuje za jedinú sekundu, čo je oveľa pohodlnejšie ako pri tradičných filtroch so závitom. Ultra tenký hliníkový rám vyrobený technológiou CNC zabraňuje vinetácii na širokouhlých objektívoch a zároveň ponúka elegantnú a odolnú konštrukciu. Súčasťou balenia je magnetický kryt objektívu z hliníka leteckej kvality, ktorý funguje ako magnetický aj závitový kryt pre všestrannú ochranu.

Kľúčové vlastnosti:

• Eliminuje odrazy na nekovových povrchoch pre jasnejšie a živšie obrazy
• Zvyšuje sýtosť farieb a celkovú čistotu obrazu
• Obojstranné leštené optické sklo HD pre vysokú vernosť výkonu
• Magnetická inštalácia a demontáž za jednu sekundu
• Ultra tenký CNC hliníkový rám minimalizuje vinetáciu
• High-tech nano-povlak: vodotesný, odolný proti plesniam, poškriabaniu a mastnote
• Ľahké čistenie aj v prípade prítomnosti vody, odtlačkov prstov alebo mastnoty
• Obsahuje magnetický + závitový hliníkový kryt objektívu leteckej kvality