K&F Concept Nano-X PRO MC UV filter 49 mm pre Leica Q3/Q2

UV filter K&F Concept 49 mm MC zo série Nano-X PRO je prémiový ochranný filter na objektív, navrhnutý špeciálne pre fotoaparáty Leica Q3 43, Q3 28, Q3 a Q2. Vďaka ultračistému optickému sklu, elegantnému rámu z mosadze opracovanému technológiou CNC a pokročilým 36-vrstvovým nano povlakom…

Viac informácií

67 € s DPH 54.47 € bez DPH
-+
Dostupnosť
Dostupné k prevzatiu: 21. 09.
Centrálny sklad 5 ks
Praha 5 ks
Popis produktu ŠPECIFIKÁCIE OBSAH BALENIA

Popis produktu

UV filter K&F Concept 49 mm MC zo série Nano-X PRO je prémiový ochranný filter na objektív, navrhnutý špeciálne pre fotoaparáty Leica Q3 43, Q3 28, Q3 a Q2. Vďaka ultračistému optickému sklu, elegantnému rámu z mosadze opracovanému technológiou CNC a pokročilým 36-vrstvovým nano povlakom tento ultratenký UV filter minimalizuje odrazy, odlesky a duchov, pričom poskytuje vynikajúcu ochranu objektívu bez vplyvu na kvalitu obrazu, kompatibilitu slnečnej clony alebo makro výkon.

Chráňte objektív svojho fotoaparátu Leica a zachovajte si pritom výnimočnú kvalitu obrazu vďaka UV filtru K&F Concept 49 mm MC UV Filter Nano-X PRO Series. Tento prémiový UV filter s viacnásobnou povrchovou úpravou, navrhnutý špeciálne pre fotoaparáty Leica Q3 43, Q3 28, Q3 a Q2, spája pokročilý optický výkon s rafinovaným dizajnom mosadzného rámu inšpirovaným klasickou estetickou tradíciou značky Leica.

Filter je vyrobený z optického skla s vysokým rozlíšením a technológiou presného leštenia, vďaka čomu si zachováva vynikajúcu ostrosť a čistotu a plne podporuje vysoké rozlíšenie 60-megapixlových snímačov Leica. Ultratenký mosadzný rámik je v jednej rovine s objektívom, čím zabraňuje vinetácii a nezasahuje do slnečnej clony ani do prevádzky makro režimu, čím zabezpečuje bezproblémovú kompatibilitu pri fotografovaní.

Pokročilá 36-vrstvová nano vrstva výrazne znižuje odrazy na iba 0,1 %, čím minimalizuje duchov a odlesky v náročných podmienkach protisvetla a zároveň zachováva kontrast a vernosť obrazu. Viacvrstvová vrstva tiež poskytuje vodotesnú, odolnú proti poškriabaniu a olejovú ochranu, vďaka čomu filter vydrží každodenné používanie a zároveň sa ľahko čistí.

Na rozdiel od štandardných hliníkových rámov ponúka rám z mosadze opracovaný na CNC strojoch zvýšenú odolnosť, hladšie závity a lepšiu absorpciu nárazov, pričom poskytuje prémiový vintage vzhľad, ktorý krásne dopĺňa telá fotoaparátov Leica.

Tento UV filter radu Nano-X PRO, navrhnutý pre fotografov, ktorí vyžadujú bezkompromisnú optickú kvalitu a spoľahlivú ochranu objektívu, poskytuje profesionálny výkon v elegantnom a odolnom balení.

Kľúčové vlastnosti

  • Určený pre fotoaparáty Leica Q3 43, Q3 28, Q3 a Q2
  • Prémiový ochranný filter MCUV
  • Ultra tenký mosadzný rám zabraňuje vinetácii
  • Nenarušuje fungovanie slnečnej clony ani makro režimu
  • Pokročilá technológia 36-vrstvového nano povlaku
  • Ultra-nízka odrazivosť 0,1 % znižuje odlesky a duchov
  • Optické sklo s vysokým rozlíšením pre maximálnu ostrosť
  • Vodotesná, odolná proti poškriabaniu a olejovzdorná vrstva
  • Presná konštrukcia rámu z mosadze opracovaná na CNC strojoch
  • Plynulý závit a vylepšené tlmenie nárazov
  • Zachováva farebnú presnosť bez farebného posunu
  • Optimalizované pre senzory Leica s vysokým rozlíšením 60 MP

OBSAH BALENIA

  • 1 × UV filter K&F Concept 49 mm MC (séria Nano-X PRO)

ŠPECIFIKÁCIE

  • Značka: K&F Concept
  • Typ produktu: Ochranný filter MC UV
  • Séria: Nano-X PRO
  • Veľkosť filtra: 49 mm
  • Kompatibilné fotoaparáty: Leica Q3 43, Leica Q3 28, Leica Q3, Leica Q2
  • Materiál: optické sklo + mosadzný rám
  • Povlaky: 36 viacvrstvových nano povlakov
  • Odrazivosť: 0,1 %
  • Typ rámu: Ultra tenký mosadzný rám vyrobený technológiou CNC
  • Ochranné vlastnosti: Vodotesný, odolný proti poškriabaniu, odpudzujúci olej
Parametre

Parametre

Výrobca: K&F Concept
Kategória: Filtre

Hlavné parametre

Velikost závitu49mm
Prevedeniejednoduchý filter
Typ filtraUV Filter

GPSR

Name: Cross Global GmbH
Address: Carl-Benz-StraBe 3560386 Frankfurt am Main,Gemany
PRÍSLUŠENSTVO (3)

PRÍSLUŠENSTVO (3)

K&F CONCEPT Premium Microfiber Cleaning Cloths, Lens Cleaning Cloth for Camera Lenses

  • POSLEDNÝ KUS
Čistiace utierky K&F Concept 2-Pack Premium Microfiber Cleaning Cloths (6 x 7" /
6.7 €
Skladom 1 ks

K&F CONCEPT Premium Microfiber Cleaning Cloths, Lens Cleaning Cloth for Camera Lenses

12-balenie prémiových čistiacich utierok z mikrovlákna K&F Concept (15 x 18 cm)
11 €
Centrálny sklad 1 ks

K&F CONCEPT Premium Microfiber Cleaning Cloths, Lens Cleaning Cloth for Camera Lenses, E

Sada 20 kusov prémiových čistiacich utierok z mikrovlákna K&F Concept (15 x 18 cm)
21 €
na otázku
ALTERNATÍVY (4)