UV filter K&F Concept 49 mm MC zo série Nano-X PRO je prémiový ochranný filter na objektív, navrhnutý špeciálne pre fotoaparáty Leica Q3 43, Q3 28, Q3 a Q2. Vďaka ultračistému optickému sklu, elegantnému rámu z mosadze opracovanému technológiou CNC a pokročilým 36-vrstvovým nano povlakom…
UV filter K&F Concept 49 mm MC zo série Nano-X PRO je prémiový ochranný filter na objektív, navrhnutý špeciálne pre fotoaparáty Leica Q3 43, Q3 28, Q3 a Q2. Vďaka ultračistému optickému sklu, elegantnému rámu z mosadze opracovanému technológiou CNC a pokročilým 36-vrstvovým nano povlakom tento ultratenký UV filter minimalizuje odrazy, odlesky a duchov, pričom poskytuje vynikajúcu ochranu objektívu bez vplyvu na kvalitu obrazu, kompatibilitu slnečnej clony alebo makro výkon.
Chráňte objektív svojho fotoaparátu Leica a zachovajte si pritom výnimočnú kvalitu obrazu vďaka UV filtru K&F Concept 49 mm MC UV Filter Nano-X PRO Series. Tento prémiový UV filter s viacnásobnou povrchovou úpravou, navrhnutý špeciálne pre fotoaparáty Leica Q3 43, Q3 28, Q3 a Q2, spája pokročilý optický výkon s rafinovaným dizajnom mosadzného rámu inšpirovaným klasickou estetickou tradíciou značky Leica.
Filter je vyrobený z optického skla s vysokým rozlíšením a technológiou presného leštenia, vďaka čomu si zachováva vynikajúcu ostrosť a čistotu a plne podporuje vysoké rozlíšenie 60-megapixlových snímačov Leica. Ultratenký mosadzný rámik je v jednej rovine s objektívom, čím zabraňuje vinetácii a nezasahuje do slnečnej clony ani do prevádzky makro režimu, čím zabezpečuje bezproblémovú kompatibilitu pri fotografovaní.
Pokročilá 36-vrstvová nano vrstva výrazne znižuje odrazy na iba 0,1 %, čím minimalizuje duchov a odlesky v náročných podmienkach protisvetla a zároveň zachováva kontrast a vernosť obrazu. Viacvrstvová vrstva tiež poskytuje vodotesnú, odolnú proti poškriabaniu a olejovú ochranu, vďaka čomu filter vydrží každodenné používanie a zároveň sa ľahko čistí.
Na rozdiel od štandardných hliníkových rámov ponúka rám z mosadze opracovaný na CNC strojoch zvýšenú odolnosť, hladšie závity a lepšiu absorpciu nárazov, pričom poskytuje prémiový vintage vzhľad, ktorý krásne dopĺňa telá fotoaparátov Leica.
Tento UV filter radu Nano-X PRO, navrhnutý pre fotografov, ktorí vyžadujú bezkompromisnú optickú kvalitu a spoľahlivú ochranu objektívu, poskytuje profesionálny výkon v elegantnom a odolnom balení.
Kľúčové vlastnosti
| Výrobca: | K&F Concept |
| Kategória: | Filtre |
| Velikost závitu | 49mm |
| Prevedenie | jednoduchý filter |
| Typ filtra | UV Filter |
Akcie a zľavy len pre odberateľov · Bezplatné workshopy o zvuku a videu · Novinky a tipy zo sveta filmovania