K&F Concept Nano-X PRO MC UV filter 49 mm pre Leica Q3/Q2

Nano-X Pro — UV filter 49 mm, chráni prednú šošovku a odfiltruje ultrafialové svetlo. Kvapky, prach aj odtlačky zachytí filter namiesto šošovky.

• 36 vrstiev antireflexnej úpravy, odrazivosť 0,1 %
• Určené pre Leica Q3 43, Q3 28, Q3 a Q2
• Skrutkuje sa na objektív so závitom 49 mm.
• Povrch odpudzuje vodu, mastnotu a odoláva poškriabaniu

Pre Leica Q3 a Q2

Filter je rozmerom aj vzhľadom robený pre objektív fotoaparátov Leica Q3 43, Q3 28, Q3 a Q2. Mosadzná obrúčka je vysoká len 3,6 mm, takže neprekáža prepínaniu do makro režimu a na objektív sa dá ďalej nasadiť originálna slnečná clona. Jemné CNC ryhovanie uľahčí priskrutkovanie aj zloženie.

Filter MCUV plní dve úlohy naraz. Odfiltruje ultrafialové svetlo, ktoré robí v diaľkových záberoch a v horách namodralý závoj, a hlavne kryje prednú šošovku — namiesto poškriabaného objektívu sa vymení filter za zlomok jeho ceny. Na snímku inak nemá vplyv, takže môže zostať nasadený trvalo. Sklo má 36 vrstiev antireflexnej úpravy a odráža len 0,1 % svetla, takže sa v protisvetle neobjavia duchovia ani závoj. Povrch odpudzuje vodu a mastnotu, takže kvapky stečú a odtlačky prstov možno zotrieť bez šmúh; úprava zároveň znáša utieranie v teréne.