FUJIFILM XF 50 mm f/1,0 R WR je ultra rýchly objektív s pevnou ohniskovou vzdialenosťou pre fotoaparáty Fujifilm X-mount APS-C. S ohniskovou vzdialenosťou zodpovedajúcou 76 mm, výnimočnou maximálnou clonou f/1,0 a konštrukciou odolnou voči poveternostným vplyvom ponúka úžasný výkon pri slabom osvetlení, hladké rozostrenie pozadia…
FUJIFILM XF 50 mm f/1,0 R WR je ultra rýchly objektív s pevnou ohniskovou vzdialenosťou pre fotoaparáty Fujifilm X-mount APS-C. S ohniskovou vzdialenosťou zodpovedajúcou 76 mm, výnimočnou maximálnou clonou f/1,0 a konštrukciou odolnou voči poveternostným vplyvom ponúka úžasný výkon pri slabom osvetlení, hladké rozostrenie pozadia a presné izolovanie objektu.
FUJIFILM XF 50 mm f/1,0 R WR je vlajkový objektív s pevnou ohniskovou vzdialenosťou pre bezzrkadlové fotoaparáty Fujifilm X-mount APS-C, ktorý ponúka ohniskovú vzdialenosť zodpovedajúcu 76 mm a mimoriadnu maximálnu clonu f/1,0. Táto svetelná konštrukcia umožňuje fotografom pracovať v náročných podmienkach slabého osvetlenia a dosiahnuť presné ovládanie hĺbky ostrosti, čo je ideálne na izolovanie objektov s krásnym selektívnym zaostrením a krémovým bokehom.
Opticky je objektív vybavený 12 prvkami v 9 skupinách, vrátane jedného asférického prvku na zníženie skreslenia a sférickej aberácie a dvoch prvkov s mimoriadne nízkou disperziou (ED) na minimalizáciu chromatické aberácie a farebného lemovania. Povlak Super EBC potláča odlesky a duchov pre lepší kontrast a vernosť farieb v jasných alebo protisvetelných podmienkach.
Objektív je poháňaný motorom DC autofokusu, ktorý plynulo pohybuje veľkými prvkami a zabezpečuje rýchle, presné a tiché zaostrovanie. Zaoblená deväťlamelová clona vytvára mäkké, esteticky príjemné rozostrené svetlá, čím vylepšuje portréty a detailné zábery. Konštrukcia odolná voči poveternostným vplyvom, určená na profesionálne použitie, obsahuje 11 tesnení, ktoré chránia pred prachom, vlhkosťou a mrazom až do teploty –10 °C.
Kompaktný, ale robustný objektív má rozmery ø87 x L103,5 mm, váži 845 g a obsahuje predný filter s priemerom 77 mm pre príslušenstvo, ako sú filtre a krytky objektívu. Kombinácia optickej dokonalosti, rýchlosti a odolnosti ho robí ideálnym pre portréty, fotografovanie pri slabom osvetlení a kreatívne selektívne zaostrovanie.
Kľúčové vlastnosti:
Portrétny objektív s pevnou ohniskovou vzdialenosťou pre fotoaparáty Fujifilm X-mount APS-C
Ohnisková vzdialenosť 50 mm (ekvivalent 76 mm)
Ultra rýchla maximálna clona f/1,0 pre výkon pri slabom osvetlení a malú hĺbku ostrosti
Optická konštrukcia: 12 prvkov v 9 skupinách s 1 asférickým + 2 ED prvkami
Povlak Super EBC pre zníženie odleskov a duchov
DC motor automatického zaostrovania pre rýchle, presné a plynulé zaostrovanie
Zaoblená 9-lamelová clona pre príjemný efekt bokeh
Konštrukciaodolná voči poveternostným vplyvom s 11 tesneniami odolnými voči prachu, vlhkosti a chladu
Minimálna zaostrovacia vzdialenosť: 70 cm
Priemer predného filtra: 77 mm
Hmotnosť: 845 g
Objektív FUJIFILM XF 50 mm f/1,0 R WR
Predný a zadný kryt objektívu
Uchytenie: FUJIFILM X
Formát snímača: APS-C
Maximálna clona: f/1
Minimálna clona: f/16
Uhol záberu: 31,7
Zväčšenie: 0,08x (reprodukčný pomer 1:12,5)
Konštrukcia objektívu: 12 prvkov / 9 skupín
Typ zaostrovania: Automatické zaostrovanie
Stabilizácia obrazu: Nie
Rozmery: ø87 x L103,5 mm
Typ objektívu: teleobjektív / portrétny objektív
| Výrobca: | Fujifilm |
| Kategória: | Objektívy |
| Bajonet | Fujifilm X |
| Farba objektívu | Čierna |
| Svetelnosť (f) | 16 |
| Min. ohnisková vzdialenosť | 50mm |
| Max. ohnisková vzdialenosť | 50mm |