Objektív XF 16-55 mm f/2,8 R LM WR od spoločnosti FUJIFILM je všestranný štandardný objektív so zoomom určený pre bezzrkadlovky FUJIFILM X-Mount formátu APS-C, ktorý ponúka širokouhlý až portrétny rozsah ekvivalentný 24-84 mm. Vďaka konštantnej maximálnej svetelnosti f/2,8 tento objektív vyniká v náročných svetelných podmienkach a ponúka pozoruhodnú kontrolu…
Objektív XF 16-55 mm f/2,8 R LM WR od spoločnosti FUJIFILM je všestranný štandardný objektív so zoomom určený pre bezzrkadlovky FUJIFILM X-Mount formátu APS-C, ktorý ponúka širokouhlý až portrétny rozsah ekvivalentný 24-84 mm. Vďaka konštantnej maximálnej svetelnosti f/2,8 tento objektív vyniká v náročných svetelných podmienkach a ponúka pozoruhodnú kontrolu nad hĺbkou ostrosti.
Profesionálny objektív so zoomom a veľkou clonou musí vytvárať úžasné snímky a objektív XF16-55 mm používa 9-násobnú clonu, ktorá pomáha minimalizovať sférické aberácie. Zaoblený otvor clony je navrhnutý tak, aby vytvoril kruhovú clonu. To vytvára hladší, guľatejší a prirodzenejší bokeh.
Objektív pozostáva zo 17 prvkov v 12 skupinách, medzi ktorými sú tri asférické prvky na zníženie skreslenia a sférickej aberácie. Na zachovanie ostrosti od okraja k okraju v celom rozsahu zoomu sa používajú aj tri prvky ED s extrémne nízkym rozptylom, ktoré pomáhajú kontrolovať chromatické aberácie.
Patentovaná viacvrstvová povrchová úprava HT-EBC (High Transmittance Electron Beam Coating) spoločnosti FUJIFILM na celom povrchu objektívu pomáha minimalizovať odlesky a zabezpečuje vysokú účinnosť prenosu svetla, čím zlepšuje výkon objektívu v rôznych svetelných podmienkach.
Táto povrchová úprava sa vyrába pomocou vysokonapäťového elektrónového lúča, ktorý na povrchu skla vytvára veľmi tenkú a homogénnu vrstvu. Táto vrstva má veľmi nízky index lomu, čo umožňuje vysokú priepustnosť svetla a minimalizuje oslnenie.
Povlak Nano GI (Nano Gradient Index Coating) sa používa aj na minimalizáciu vzniku odleskov a farebných anomálií, ktoré môžu ovplyvniť kvalitu fotografií. Tento povlak odvodený od nanotechnológie využíva rôzne indexy lomu svetla v rôznych vrstvách povlaku, čím vytvára štruktúru s gradientným indexom. Táto štruktúra umožňuje účinnejší odraz svetla na povrchu objektívu a potláča oslnenie spôsobené svetlom prichádzajúcim pod šikmými uhlami. Povrchová úprava Nano GI je tiež navrhnutá tak, aby minimalizovala farebné anomálie, napríklad chromatickú aberáciu, ktorá môže viesť k nežiaducemu skresleniu farieb.
Systém automatického zaostrovania je založený na vysokorýchlostnom lineárnom motore, ktorý dokáže zaostriť už za 0,02 sekundy (v kombinácii s fotoaparátom FUJIFILM X-T4). Poskytuje plynulý, takmer nehlučný výkon, ktorý je obzvlášť výhodný pri natáčaní videa a pri práci v oblastiach citlivých na hluk.
Konštrukcia objektívu odolná voči prachu a vlhkosti vám umožní ponoriť sa do fotografovania bez ohľadu na počasie a umožňuje bezstarostné používanie v nepriaznivých podmienkach a pri teplotách pod bodom mrazu až do -10 °C.
Tento objektív dokáže dosiahnuť dokonalú rovnováhu ostrosti s jemným bokehom. Poskytuje verné farby, aké sa doteraz v objektívoch so zoomom nevyskytovali.
| Výrobca: | Fujifilm |
| Kategória: | Objektívy |
| Priemer filtra | 77mm |
| Minimálna zaostrovacia vzdialenosť | 300mm |
| Počet lamiel clony | 9 |
| Priemer objektívu | 83.3mm |
| Dĺžka objektívu | 106mm |
| Bajonet | X-mount |
| Farba objektívu | Čierna |
| typ objektivu | Zoom |
| Objektív pre | APS-C |
| Svetelnosť (f) | 2.8 |
| Ohnisková vzdialenosť | 16mm |
| Min. ohnisková vzdialenosť | 16mm |
| Max. ohnisková vzdialenosť | 55mm |
| Automatické ostrenie | Áno |
| Zoom | Áno |
| Hmotnosť | 655g |
Akcie a zľavy len pre odberateľov · Bezplatné workshopy o zvuku a videu · Novinky a tipy zo sveta filmovania